材料表面工程答案-中国大学慕课

第一章 物理气相沉积与磁控溅射

物理气相沉积与磁控溅射

1、下列可用于绝缘靶材镀膜的PVD技术是
    A、直流溅射
    B、射频溅射
    C、三极溅射
    D、低温磁控溅射

2、CrN镀层硬度高、摩擦系数小，可代替电镀铬，该镀层常用下列哪种方法制备
    A、真空镀膜
    B、直流溅射镀膜
    C、反应溅射镀膜
    D、电刷镀

3、不属于PVD技术的是
    A、金属有机化合物化学气相沉积
    B、溅射镀膜
    C、离子镀
    D、真空蒸镀

4、用直流溅射法在阴极侧可以沉积绝缘膜。（ ）

5、常用的溅射沉积技术中沉积效率最高的是

第二章 化学转化膜技术

化学转化膜技术

1、不属于铝及铝合金的阳极氧化过程的是
    A、无孔层形成
    B、无孔层增厚
    C、多孔层形成
    D、多孔层增厚

2、表面进行涂覆处理后不需要进行封闭处理的是
    A、铝阳极氧化
    B、火焰热喷涂
    C、磷化
    D、离子镀

3、不属于铝合金生产流程工艺的是？
    A、挤压成型
    B、热处理
    C、表面处理
    D、淬火处理

4、铝合金表面本身容易产生钝化膜，且化学氧化膜厚度很薄，因此铝合金不能化学氧化处理，而只进行阳极氧化处理。

5、铝合金的阳极氧化属于